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芯片質(zhì)量缺陷損失重大,如何早發(fā)現(xiàn)早解決?

2024-10-31  瀏覽量:184

 

芯片質(zhì)量缺陷損失重大,如何早發(fā)現(xiàn)早解決?

 

IC,即集成電路,是現(xiàn)代電子科技的基石,作為一種微型電子器件或部件,它扮演著大多數(shù)電路的核心與智慧中樞的角色。幾乎在每一塊電路板上,你都能發(fā)現(xiàn)它的身影,其質(zhì)量之重要性不言而喻,堪稱至關(guān)重要。

 

 

今天以IC失效為例,通過X-ray檢查、失效現(xiàn)象確認(rèn)、超聲掃描、開封觀察、定位分析、SEM形貌觀察、FIB切割分析等分析測(cè)試手段查詢其失效原因,并最終分析總結(jié)提出改善建議。

 

測(cè)試分析

 

1 外觀檢查+無損檢測(cè)

 

某型號(hào)IC出現(xiàn)失效,經(jīng)定位為HOST IC的 PIN38對(duì)GND短路。

外觀檢查:NG件表面絲印清晰,未發(fā)現(xiàn)明顯的破損、燒毀等明顯異常。

無損檢測(cè):NG件內(nèi)部結(jié)構(gòu)完整,內(nèi)部鍵合區(qū)域未發(fā)現(xiàn)燒毀及搭接現(xiàn)象。

 

2 失效現(xiàn)象確認(rèn)

 

測(cè)試結(jié)果顯示:OK1的pin38對(duì)pin60(VSS)有漏電現(xiàn)象,其它引腳間也存在漏電現(xiàn)象。

 

 

3 超聲掃描

 

掃描結(jié)果顯示:聚焦到晶圓芯片表面,未發(fā)現(xiàn)NG1晶圓表面存在明顯分層;聚焦到芯片框架,發(fā)現(xiàn)框架部位存在分層,但分層位置不在芯片鍵合區(qū),不會(huì)導(dǎo)致芯片漏電失效。

 

 

4 開封觀察

 

開封結(jié)果顯示:NG1中間區(qū)域有疑似燒毀現(xiàn)象,其他區(qū)域未發(fā)現(xiàn)明顯燒毀。

 

 

5 定位分析

 

定位結(jié)果顯示:NG1通過定位發(fā)現(xiàn)有明顯的漏電點(diǎn),漏電點(diǎn)的位置與開封觀察發(fā)現(xiàn)的疑似燒毀位置一致,而芯片其他區(qū)域未發(fā)現(xiàn)明顯的漏電點(diǎn)。

 

 

6 SEM形貌觀察

 

觀察結(jié)果顯示:NG1定位顯示的漏電區(qū)域有明顯的燒毀現(xiàn)象,燒毀旁邊也發(fā)現(xiàn)有明顯的裂紋。

 

 

7 FIB切割分析

 

對(duì)失效芯片燒毀位置進(jìn)行FIB切割,觀察其燒毀區(qū)域的形貌。

經(jīng)過多次切割后觀察發(fā)現(xiàn):

(1)第一次切割觀察時(shí),芯片內(nèi)部發(fā)現(xiàn)存在空洞及裂紋,空洞周邊形狀規(guī)則,未發(fā)現(xiàn)燒毀的跡象,說明空洞是本身存在的;

(2)第二次切割觀察時(shí),第一次發(fā)現(xiàn)的空洞在減小,且在上下兩層間發(fā)現(xiàn)有金屬,上下兩層間有金屬也應(yīng)屬于芯片本身缺陷;

(3)第三次、第四次切割時(shí),單層線路周邊內(nèi)部出現(xiàn)了燒毀,且內(nèi)部發(fā)現(xiàn)有多處空洞。

 

 

結(jié)論

 

分析:

(1)失效IC表面無明顯的燒毀、裂紋等跡象,X-ray檢查也未發(fā)現(xiàn)內(nèi)部結(jié)構(gòu)、鍵合有明顯燒毀的現(xiàn)象,因此可排除IC因大電流導(dǎo)致的燒毀;

(2)通過引腳間的半導(dǎo)體特性測(cè)試,確認(rèn)pin38對(duì)pin60(VSS)有漏電現(xiàn)象,其他引腳也發(fā)現(xiàn)有漏電現(xiàn)象。超聲掃描發(fā)現(xiàn)失效IC框架有分層現(xiàn)象,但不在鍵合區(qū),不會(huì)導(dǎo)致芯片失效;

(3)開封觀察發(fā)現(xiàn)有疑似燒毀的現(xiàn)象,通過定位分析及SEM觀察,確認(rèn)其失效IC內(nèi)部存在燒毀現(xiàn)象;

(4)通過FIB切割觀察發(fā)現(xiàn),失效芯片單層線路有空洞及燒毀,且上下層之間存在金屬,第一次切割時(shí)單層線路存在空洞,空洞周邊無明顯的燒毀,因此屬于物料本身缺陷;繼續(xù)切割后上下層之間出現(xiàn)金屬,也應(yīng)屬于物料本身缺陷。

 

總結(jié):

本案件中失效晶元內(nèi)部線路層中發(fā)現(xiàn)有空洞現(xiàn)象,會(huì)導(dǎo)致晶元內(nèi)部線路變窄從而引起線路的通流能力下降,最終導(dǎo)致晶元內(nèi)部線路燒毀,而晶元內(nèi)部存在空洞屬于物料本身缺陷。

 

*** 以上內(nèi)容均為原創(chuàng),如需轉(zhuǎn)載,請(qǐng)注明出處 ***

 

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